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隨著我國經濟再次上升，中國人民對電子技術和電子產品的需求也在不斷提高。像是芯片等行業開始了穩步向上的發展。而在與電子行業相關的產業發展中我們還發現了超純水市場也在蓬勃發展。

超純水作為電子行業中的清洗用水，在芯片、半導體生產中必不可少。目前傳統的超純水制備工藝都需要定期進行樹脂再生，既耗費物力又浪費人工，所以人們開始應用一種新型的EDI超純水系統來進行制備超純水，效果顯著，出水水質也是穩定的。而該系統的核心工藝就是應用了反滲透膜技術，該膜組件具有高脫鹽率，高抗污染，對硼、硅、鍺等元素的高去除率，TOC溶出率更低，從而減小后續系統處理壓力，提高后續系統的使用周期和使用效果。

　　反滲透膜在EDI超純水系統中體現的技術優勢：

　　1、反滲透膜組件的脫鹽率很高，單級反滲透脫鹽率一般可穩定在97%以上，雙級反滲透脫鹽率一般在99%以上。

　　2、反滲透膜可以有效去除細菌等微生物、有機物，以及金屬元素等無機物，出水水質優于其他方法。

3、應用反滲透膜組件制備超純水運行成本及人工成本低廉，減少環境污染。

4、減緩了源水水質波動而造成的產水水質變化，從而有利于生產中水質的穩定，這對純水產品質量的穩定有積極的作用。

5、可減少后續處理設備的負擔，從而延長后續處理設備的使用壽命。

以上，就是關于反滲透膜在半導體行業所需超純水設備中體現的技術優勢的介紹。反滲透膜生產超純水的工藝已經很成熟，并且該技術水通量大，化學清洗周期長，出水水質穩定，特別適用于電子級超純水EDI系統前處理，可以有效地控制電子級超純水系統的TOC含量。