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目前印染企業多是通過生物處理方法處理印染廢水，但可生化性比較差，且所需的菌種等對染料的經常更換的適應性能較差。本文提出基于深紫外（DUV）LED芯片基礎上，結合O₃協同濕式催化氧化技術的完整處理工藝系統，工藝簡單，一次設備投入和運行成本低，處理效果穩定理想，耐沖擊符合能力強，印染廢水經處理后的清水可以回用于生產過程，該工藝還能夠滿足印染產品種類不斷變化的需求。

1. 引言

印染廢水的特點是水量大、色度高、COD高、可生化性差的高濃度有機廢水。國內目前以生物處理為主，輔助以臭氧、膜處理等物化手段，效果不能讓人滿意，而且工藝設計較復雜。由于生產廠商根據市場的需求，以及染整技術的發展，染料和助劑的成分變化很大，往往特定的生物處理方法（如特定性菌種等）或設計能力不能滿足變化的需求。鑒于這種特點，設計能夠快速適應多種變化的普適性工藝及設備，是市場化的迫切需要。

2. 工藝路線

本文提出一種基于深紫外（DUV）LED芯片基礎上，結合O₃協同濕式催化氧化技術的完整處理工藝系統，如圖1所示。

3. 工藝簡介

印染廢水中含有大量的細微纖維狀成分，占據了廢水的色度和COD絕大部分，高效去除此部分，會極大減輕后續處理負荷和運行成本。經過初次絮凝劑調理和沉淀，除去廢水中60~80%的懸浮物。二次沉淀去除了經過脫色劑、混凝劑和絮凝劑作用的大量絮體，此過程廢水的色度極大減輕，保證后續光催化的透光度。脫色劑可選用適用性較廣的季銨鹽類脫色劑，混凝劑采用PAC、PSAF等效果較為理想，沉淀絮凝劑可使用陰離子PAM。經過兩次沉降處理后的廢水，進入具有微米級過濾功能的撞擊流反應器，撞擊流體是微米級過濾廢水和O₃與壓縮空氣的混合氣體，混合氣體同樣經過微米級空隙發生高速撞擊，將反應過程提高數十倍。撞擊后的混合了O₃的待處理廢水經過具有相反螺旋方向槳葉和DUV-LED構成的混合無動力反應器，密度小于1kg/cm³的TiO₂球作為催化劑，在反應器內懸浮流動。采用流動床形式的球形催化劑，是為了保證DUV光與廢水在催化劑表面充分反應，同時反應器結構也保證了隨時清潔催化劑球體表面。反應后的混合液經過過濾器，分離出催化劑球體回流到反應器入口，過濾液經過第三次絮凝劑作用，沉淀反應物后廢水可回用或排放，此環節絮凝劑可使用不易氧化的無機絮凝劑。沉淀污泥經過脫水機脫水后焚燒或填埋處置。

4. 工藝效果

本工藝方法適應性廣，工藝簡單，一次設備投入和運行成本低，但是處理效果較穩定且理想，耐沖擊符合能力強，處理后的廢水回用于生產過程，實現資源化，同時能夠滿足印染產品種類不斷變化的需求。

（內容來源：佛山科學技術學院  林潔麗）